特征參（cān）數（shù）：
● 150-350mW@355nm
● 80MHz重複頻率 / 12ps脈寬
● 高光束質量M²<1.3
● 緊湊、密封、堅固的工業（yè）級操作平台確保了（le）良好的光束性能和長期的功率穩定性（xìng）。
應用：
● 半導體（tǐ）晶圓檢查（chá）
● 細胞篩選
● 微加工（gōng）
● 微型（xíng）立體光刻（kè）
光束特性 | ||
項目 | GENIUS-150 | GENIUS-350 |
波長（zhǎng）(nm) | 355nm | |
功率 | 150mW | 350mW |
重複頻率1(MHz) | 80MHz±1MHz | |
脈寬2(ps) | ＜12ps | |
光（guāng）束質量 | TEM00(M2＜1.3) | |
平均功率穩定性3(RMS) | ＜2% | |
偏振度（dù） | ＞100:1 水平 | |
光斑圓度(%) | ＞85% | |
光束指向性4(μrad/℃) | ＜20μrad/℃ | |
光斑尺寸5(mm) | ~1mm | |
一般特性（xìng） | ||
電源輸入 | 220 VAC ±5% 50-60Hz | |
能量損耗 | ＜1kW | |
冷卻方式 | 閉路循環水冷 | |
工作條件 | 溫（wēn）度 15-35℃ 濕度 ＜65% | |
加熱時間(min) | ＜40min | |
